半導體行業產品清洗用超純水設備

　　型號：LRO-UP-1000

　　操作壓力：1.0Mpa（Mpa）

　　水電阻率：18MΩ·cm

　　出水量：500L/H

　　外形尺寸：160*100*160（cm）

　　電壓：380（V

　　功率：380（w）

　　電導率：0.06

　　脫鹽率：99.2（%）　　

　　超純水設備是既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。在光伏行業電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。因此水的質量相當重要。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。 

　　EDI高純水設備作為制取超純水的設備，作為反滲透設備后的二次除鹽設備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業，半導體工業，發電工業，制藥行業和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。